潔凈室的濕度關鍵是依據(jù)加工工藝標準來確定的，但在考慮加工工藝規(guī)定的標準下，應充分考慮人員的舒適感。隨之空氣潔凈度要求的提升，出現(xiàn)了加工工藝對溫度濕度的規(guī)定也愈來愈嚴?？傮w標準看，因為生產(chǎn)加工精密度愈來愈細致，因此對溫度起伏范疇的規(guī)定愈來愈小。比如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光加工工藝中，做為掩膜板原材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差規(guī)定愈來愈小。直徑100 um的硅片，溫度升高1度，就造成了0.24um線形澎漲，因此務必有±0.1度的控溫，另外環(huán)境濕度值通常較低，由于人流汗之后，對產(chǎn)品將有污染，尤其是怕鈉的半導體材料生產(chǎn)車間，這類車間不宜超出25度。

環(huán)境濕度過高造成的問題會很多?？諝庀鄬穸瘸?5%時，冷卻水管壁上將會結露，假如出現(xiàn)在高精密設備或電源電路中，就會造成各種各樣安全事故?？諝鉂穸仍?0%易銹蝕。除此之外，環(huán)境濕度太高時將根據(jù)空氣中的水分子把硅片表層黏著的塵土化學吸咐在表層不好消除?？諝鉂穸仍礁?黏附的越難除掉，但當空氣濕度小于30%時，又因為靜電力的功效使粒子也非常容易吸咐于表層，同時大量半導體器件非常容易產(chǎn)生熱擊穿。針對硅片生產(chǎn)制造溫度范疇為35—45%。